聯(lián)系電話
北京中科復(fù)華科技有限公司
參考價 | ¥10-¥280 | /臺 |
- DISC-IBE-150C/200C 型號
- 其他品牌 品牌
- 生產(chǎn)商 廠商性質(zhì)
- 北京市 所在地
訪問次數(shù):555更新時間:2025-04-25 17:04:25
產(chǎn)地 | 國產(chǎn) |
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應(yīng)用方向:科研與教學(xué)
產(chǎn)品優(yōu)勢:負(fù)角度刻蝕降低反污染,熱態(tài)、冷態(tài)兩種中和系統(tǒng),刻蝕腔體前后開門
產(chǎn)品配置:
★離子源種類:考夫曼離子源
★離子源口徑:Φ160mm/220mm
★中和方式:燈絲、冷態(tài)等離子體橋
★樣片數(shù)量及尺寸:1片Φ100mm/150mm樣品
★刻蝕材料:包括并不限于硅、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物、合金、陶瓷等。
★刻蝕腔體:高真空系統(tǒng)
★刻蝕不均勻性:±3%-±6%
★刻蝕速率:10-500nm/min(視具體材料與工藝)
★工作臺:可旋轉(zhuǎn),可自傳,可調(diào)距離,包含水冷
★工藝氣路:1-2路
★束流檢測:法拉第筒在線檢測
★終點檢測控制:可選配質(zhì)譜儀
★操作模式:全自動+半自動控制
選型參考:DISC-IBE-150C(離子源口徑160mm);DISC-IBE-200C(離子源口徑220mm)