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DISC-IBE-150C/200C離子束刻蝕機(IBE)
參考價10-280/臺
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • DISC-IBE-150C/200C 型號
  • 其他品牌 品牌
  • 生產(chǎn)商 廠商性質(zhì)
  • 北京市 所在地

訪問次數(shù):555更新時間:2025-04-25 17:04:25

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產(chǎn)品簡介
產(chǎn)地 國產(chǎn)
IBE刻蝕機采用離子束刻蝕技術(shù),其原理基于離子和固體表面的相互作用。具體而言,離子束通過控制系統(tǒng)加速并聚焦,然后瞄準(zhǔn)待刻蝕的樣品表面。離子束在與樣品表面相撞時,會發(fā)生多種相互作用,包括散射、表面反射、電子激發(fā)和離子抑制等。其中,離子抑制是IBE刻蝕機的核心原理
產(chǎn)品介紹

應(yīng)用方向:科研與教學(xué)

產(chǎn)品優(yōu)勢:負(fù)角度刻蝕降低反污染,熱態(tài)、冷態(tài)兩種中和系統(tǒng),刻蝕腔體前后開門

產(chǎn)品配置:

★離子源種類:考夫曼離子源

★離子源口徑:Φ160mm/220mm

★中和方式:燈絲、冷態(tài)等離子體橋

★樣片數(shù)量及尺寸:1片Φ100mm/150mm樣品

★刻蝕材料:包括并不限于硅、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物、合金、陶瓷等。

★刻蝕腔體:高真空系統(tǒng)

★刻蝕不均勻性:±3%-±6%

★刻蝕速率:10-500nm/min(視具體材料與工藝)

★工作臺:可旋轉(zhuǎn),可自傳,可調(diào)距離,包含水冷

★工藝氣路:1-2路

★束流檢測:法拉第筒在線檢測

★終點檢測控制:可選配質(zhì)譜儀

★操作模式:全自動+半自動控制

選型參考:DISC-IBE-150C(離子源口徑160mm);DISC-IBE-200C(離子源口徑220mm)



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